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技術(shu)文(wen)章(zhang)
當前(qian)位置(zhi)：首頁(ye) > 技術(shu)文(wen)章(zhang) > HACH GLI極(ji)譜法溶解(jie)氧分(fen)析儀典型應用和(he)測(ce)量原理(li)
HACH GLI極(ji)譜法溶解(jie)氧分(fen)析儀典型(xing)應用：
城市汙水(shui)和(he)工(gong)業廢(fei)水(shui)處(chu)理(li)廠的(de)溶解(jie)氧監測(ce)。溶(rong)解(jie)氧儀主(zhu)要用(yong)於確保(bao)水(shui)處(chu)理(li)過(guo)程(cheng)中有充足的溶(rong)解(jie)氧，以(yi)維持(chi)微生物的(de)活(huo)性(xing)，並(bing)可通過(guo)控(kong)制(zhi)曝(pu)氣量優化(hua)能(neng)源(yuan)的(de)使(shi)用。GLI 溶解(jie)氧儀配置(zhi)特(te)殊(shu)溶(rong)解氧探(tan)頭,適(shi)用於汙水(shui)處(chu)理(li)廠內(nei)各工(gong)藝點(dian)的(de)監測(ce)。典(dian)型(xing)的(de)應用環境包括調節(jie)池、曝(pu)氣池、好氧/厭氧消(xiao)解池和(he)出水(shui)監測(ce)等。也可(ke)用於地(di)表水(shui)、汙(wu)水(shui)和(he)鹽(yan)水(shui)等各種水(shui)體(ti)溶解(jie)氧的(de)測(ce)定(ding)。
HACH GLI系列(lie)溶解氧分(fen)析儀(溶解(jie)氧探(tan)頭)有三(san)種規格的(de)控(kong)制器(qi)，分(fen)別是(shi)：sc200、D33、PRO － D3，其中(zhong)，PRO － D3 可以(yi)用於防爆(bao)場(chang)所。
測(ce)量原理(li)：
GLI極(ji)譜法溶解(jie)氧分(fen)析儀，配置(zhi)GLI5500溶解(jie)氧探(tan)頭，采(cai)用(yong)克(ke)拉克(ke)極(ji)譜電(dian)池技術(shu)，由(you)金(jin)傳感(gan)器(qi)、陰(yin)傳(chuan)感(gan)器(qi)和(he)銀參考(kao)傳感(gan)器(qi)組成(cheng)三(san)傳(chuan)感(gan)器(qi)系(xi)統(tong)。對(dui)銀參考(kao)傳感(gan)器(qi)采(cai)用(yong)恒(heng)定的電(dian)壓進行(xing)極(ji)化(hua)，起(qi)到(dao)了(le)穩(wen)定測(ce)量值的作(zuo)用，避免了(le)傳(chuan)統兩(liang)傳(chuan)感(gan)器(qi)系(xi)統(tong)的(de)幹(gan)擾(rao)，使(shi) GLI 5500 溶解(jie)氧探(tan)頭傳(chuan)感(gan)器(qi)具(ju)有很高(gao)的精(jing)度(du)和穩(wen)定(ding)性。
GLI5500 溶解(jie)氧探(tan)頭采(cai)用(yong)了(le)壹(yi)體(ti)化(hua)可(ke)更換的膜(mo)頭組件，每(mei)個組件已(yi)經(jing)預裝(zhuang)好膜(mo)片(pian)、電(dian)解(jie)液，簡(jian)化(hua)了(le)更(geng)換新(xin)膜(mo)和(he)電(dian)解(jie)液的(de)繁(fan)瑣(suo)工(gong)作。溶(rong)解(jie)氧傳(chuan)感(gan)器(qi)采(cai)用(yong)三(san)傳(chuan)感(gan)器(qi)克(ke)拉克(ke)測(ce)定(ding)技術(shu)，使(shi)傳感(gan)器(qi)具(ju)有很高(gao)的精(jing)度(du)和穩(wen)定(ding)性。可選空(kong)氣自(zi)清(qing)洗系(xi)統。
儀器(qi)特(te)點(dian)及(ji)技術(shu)指標(biao)
溶解(jie)氧儀器(qi)特(te)點(dian) | sc200模擬(ni)溶解氧控(kong)制器(qi) | D33 溶解(jie)氧控(kong)制器(qi) | PRO-D3 溶解(jie)氧變(bian)送(song)器(qi) |
可接(jie)入(ru)探(tan)頭數(shu)量 | 2溶解(jie)氧探(tan)頭 | 2溶解(jie)氧探(tan)頭 | 1溶解(jie)氧探(tan)頭 |
顯示 | 背光(guang)LCD | 背光(guang)LCD | LCD |
繼(ji)電(dian)器(qi)數(shu)量 | 4 | 2 | N/A |
模擬(ni)輸出 | 2個0/4-20mA | 2個0/4-20mA | 1個4-20mA |
通訊協議 | RS-232 &485，Profibus DPV1（選配） | RS-232 | N/A |
防護等級 | NEMA4X（IP66），1/2DIN | NEMA4X（IP65），1/4DIN（面板(ban)） | NEMA4X |
防爆(bao)等級 | / | / | Class Ⅰ，Divission Ⅱ |
Group A，B，C，D， T5 | |||
以(yi)ppm形(xing)式顯示DO | * | * | * |
以(yi)mg/L形(xing)式顯示DO | * | * | * |
以(yi)％形(xing)式顯示DO | * | * | * |
自(zi)診(zhen)斷(duan) | * | * | * |
CE認(ren)證 | * | * | * |
溫度(du)補償(chang) | * | * | * |
溶解(jie)氧量程(cheng)（ppm） | 0-40 | 0-99.99 | 0-99.99 |
溶解(jie)氧量程(cheng)（mg/L） | 0-20 | 0-99.99 | 0-99.99 |
飽(bao)和(he)度(du)量程(cheng) | 0-200% | 0-999.9% | 0-999.9% |
溫度(du)量程(cheng) | 0.0-50 | 0.0-100.0℃ | 0.0-100.0℃ |
穩定(ding)性 | - | 量程(cheng)的0.05% | 量程(cheng)的0.05% |
重復(fu)性 | 量程(cheng)的±0.05% | 量程(cheng)的 0.05% | 量程(cheng)的 0.05% |
電(dian)源(yuan) | 220Vac或(huo)24Vdc | 190-260Vac | 16-30Vdc |
安(an)裝(zhuang)方式 | 板(ban)式、墻面或(huo)管(guan)道 | 板(ban)式 | 板(ban)式、墻面或(huo)管(guan)道 |
尺寸(cun) | 144 x 144 x 181 mm | 9.5 x 6.0 x 9.5mm | 10.5 x 12.5 x0.9mm |
校(xiao)準方法 | 樣品(pin)校(xiao)準和飽(bao)和(he)度(du)空(kong)氣校(xiao)正 | 樣品(pin)對(dui)比(bi)校(xiao)準和飽(bao)和(he)空(kong)氣校(xiao)準 | 樣品(pin)對(dui)比(bi)校(xiao)準和飽(bao)和(he)空(kong)氣校(xiao)準 |
訂(ding)購指南(nan)：
以(yi)下是(shi)GLI溶解(jie)氧分(fen)析儀控制器(qi)及(ji)安(an)裝(zhuang)附件，需(xu)要單(dan)獨訂(ding)購GLI5540 溶解(jie)氧探(tan)頭：
LXV404.99.00102 sc200型溶(rong)解氧控(kong)制器(qi)，220V，單(dan)通道，模擬
D33A2NN D33型溶(rong)解氧控(kong)制器(qi)，模(mo)擬(ni)，單(dan)通道, 190-260Vac
LXV404.99.00112 sc200溶解(jie)氧控(kong)制器(qi)，220V，雙通道，模擬
PRO-D3A1N PRO － D3 溶解(jie)氧變(bian)送(song)器(qi),16-30Vdc
5540D0A 5500 極(ji)譜法溶解(jie)氧探(tan)頭
備件(jian)及耗材：
5500A1020 － 001 －體(ti)化(hua)膜(mo)頭組件
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