技(ji)術文(wen)章(zhang)
當前(qian)位置(zhi):首(shou)頁 > 技(ji)術文(wen)章(zhang) > 如(ru)何(he)計(ji)算(suan)水中(zhong)PH值
當(dang)薄(bo)膜(mo)玻(bo)璃(li)表面(mian)被水浸(jin)濕(shi)時(shi),其表(biao)面(mian)的(de)堿離(li)子(zi)便會(hui)溶(rong)出,也就(jiu)是說薄(bo)膜(mo)玻(bo)璃(li)表面(mian)被水解(jie)。取(qu)決於(yu)玻(bo)璃(li)種類(lei)的(de)不(bu)同,此種水解(jie)作用(yong)可(ke)使(shi)玻(bo)璃(li)表面(mian)形成(cheng)0.3~0.6nm厚(hou)的(de)溶(rong)脹(zhang)層。對(dui)於(yu)H+離(li)子(zi)來(lai)講,此溶脹(zhang)層的(de)很(hen)象(xiang)壹離(li)子(zi)交換器。隨(sui)著(zhe)被測(ce)介質pH 值的變化,H+離(li)子(zi)會(hui)擴散(san)進(jin)溶(rong)脹(zhang)層或從(cong)溶(rong)脹(zhang)層中(zhong)擴散(san)出來(lai)。對(dui)於(yu)薄(bo)膜(mo)玻(bo)璃(li)的內側(ce)來(lai)講,整個(ge)過程與上(shang)述相同,只(zhi)是由(you)於(yu)內溶(rong)液(ye)是固定的(如(ru)pH 為7的(de)內緩(huan)沖(chong)液(ye)),所以只(zhi)是形成(cheng)恒(heng)定的H+離(li)子活度(du)。內側(ce)和外(wai)側(ce)的溶脹(zhang)層被玻(bo)璃(li)組織(zhi)分(fen)開,同時(shi)由(you)於(yu)玻(bo)璃(li)膜(mo)內外(wai)兩(liang)側(ce)不(bu)同的(de)表(biao)面(mian)電位,便(bian)在玻(bo)璃(li)膜(mo)上(shang)建(jian)立(li)了(le)壹個(ge)電位差(cha)。這壹電位差(cha)可通(tong)過零(ling)電流(liu)法(fa)用(yong)壹帶(dai)有pH 刻(ke)度的mV計(ji)測(ce)量(liang)並(bing)以(yi)pH 值的形式(shi)顯示出來(lai)。電位遵循能斯(si)特(te)方(fang)程,在25 ℃ 的(de)條(tiao)件(jian)下,質子活度變化壹個(ge)級別(bie)(壹個(ge)pH )時(shi),電位變化59.16mV。
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